Con lo sviluppo della scienza e della tecnologia, è stato gradualmente migliorato il metodo di produzione della lastra di guida della luce, che è diverso dal primo tipo di stampa, e lo chiamiamo "tipo non stampabile".
fotolitografia
La tecnologia della litografia consiste nel rivestire uno strato di fotoresist resistente alla corrosione su un wafer di silicio piatto, quindi lasciare passare una forte luce attraverso il fotoresist ed esporre selettivamente sul fotoresist in base alle informazioni sul modello dello strato specifico generato; il wafer di silicio verrà lasciato dietro una pellicola con una struttura microfantasia. La rugosità superficiale della lastra guida di luce preparata con il metodo della fotolitografia è scarsa e la perdita di energia luminosa è relativamente grande.
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